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平面磨抛轨迹研究现状与进展平面磨抛,磨抛轨迹,单面研磨磨商网年月日文赵再兴庄敏杰方从富摘要针对平面研磨抛光过程,由于磨具与工件间不同的相对运动形式,所形成加工轨迹不同的现象,介绍了研磨抛光轨迹均匀性的评价
平面双面研磨装置及力位控制豆丁网年月日传统的平面研磨机的工作原理平面研磨运动轨迹要求工件摩擦自转式平面研磨机设计运动轨迹仿真及分析
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变位自转式双平面研磨方法仿真研究及加工实验针对传统平面研磨方法中,工件研磨轨迹重复率高,研磨速度径向分布不均的缺点,基于固着磨料研磨技术提出一种变位自转式双平面研磨加工方法工件在研具的运动中获得
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